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高低溫恒溫循環(huán)槽

簡要描述:高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MGD20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達(dá)到±0.1℃, 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

  • 產(chǎn)品型號:MGD20-20
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2022-06-15
  • 訪  問  量:5071
詳細(xì)介紹
品牌吉米諾產(chǎn)地國產(chǎn)
溫度范圍(-20℃~180℃)℃工作室尺寸475x675x875mm
溫度波動度0.1~0.2℃控溫方式PID自整定
供貨周期≥7天

高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MG20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達(dá)到±0.1℃, 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

產(chǎn)品特點(diǎn)

> PID精密恒溫控制系統(tǒng),精密恒溫控制系統(tǒng),恒溫波動度±0.1℃,適用于高至195℃,低-20℃的化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制等;

> 單點(diǎn)溫度校準(zhǔn)和電位器校正,溫度數(shù)據(jù)更可靠;

> 壓縮機(jī),噪音低,制冷效率高;

> 制冷相關(guān)配件采用進(jìn)口品牌,性能穩(wěn)定且壽命長;

> 制冷系統(tǒng)具備高壓保護(hù)器,確保制冷系統(tǒng)安全;

> 全封閉高低溫磁力泵循環(huán)攪拌,溫場均勻,免除泄露和異常噪音;

> 具備傳感器開路、短路保護(hù)、ADC初始化檢測等,安全防護(hù)更全面;

 

可選附件

> 可選配RS485通訊接口;

> 可選配嵌入式不銹鋼蓋,用于更緊湊的空間需求;

> 可選配SUS304液槽隔板,用于浸入式實(shí)驗(yàn)需求;

 

安全保護(hù)裝置

> 具有斷電記憶功能;

> 溫度上下限制保護(hù)和報(bào)警功能;

> 三重溫度保護(hù),高低溫限制保護(hù),加熱限制保護(hù);

 

應(yīng)用范圍

石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

 

高低溫恒溫循環(huán)槽技術(shù)參數(shù)

型號

MGD20-20

控溫范圍

-20℃~180℃(高至溫度195℃)

溫度波動度

0.1℃~0.2℃

顯示精度

0. 1

容積

20L

液槽尺寸

Φ300x300mm

開口尺寸

Φ280mm

溫度控制

PID程序

制冷形式

單級壓縮

循環(huán)泵流量

大 20L/min

循環(huán)泵壓力

大 2.0bar

加熱功率

2500W

制冷功率@20℃

1800W

安全性能

數(shù)顯溫度校準(zhǔn),傳感器開路、短路保護(hù)和報(bào)警,雙重溫度保護(hù),高低溫保護(hù),防干燒功能

 

備注:加熱制冷循環(huán)器所有技術(shù)參數(shù)均為標(biāo)準(zhǔn)配置參數(shù),涉及溫度波動度、壓力、流量、制冷功率、加熱功率等詳細(xì)技術(shù)參數(shù)也可以向相應(yīng)銷售索?。蝗艨蛻魧υO(shè)備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制,我公司可以根據(jù)實(shí)際的需求做非標(biāo)定制化處理。

 

更多關(guān)于加熱制冷循環(huán)器/加熱制冷循環(huán)槽的設(shè)備信息,可以訪問吉米諾網(wǎng)站.

 

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